掃描電鏡的電子束損傷如何減少？

降低束流密度：通過(guò)擴(kuò)大掃描區(qū)域或減小電子束的流強(qiáng)，可以減少單位面積上接收到的電子數(shù)量，從而減輕對(duì)樣品的損傷。

使用低加速電壓：較低的加速電壓意味著電子的能量較低，它們對(duì)樣品的穿透能力減弱，減少了對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)的損傷，更適合觀察表面敏感或軟物質(zhì)樣品。

優(yōu)化樣品制備：確保樣品表面導(dǎo)電，通過(guò)鍍金或其他導(dǎo)電材料處理，減少表面充電效應(yīng)。適當(dāng)?shù)臒崽幚砜梢詼p少樣品內(nèi)部應(yīng)力，間接降低損傷。對(duì)于生物樣品，冷凍干燥或液氮快速冷凍可以固定結(jié)構(gòu)，減少電子束造成的結(jié)構(gòu)變化。

控制掃描模式：選擇合適的掃描策略，如順序掃描而非隨機(jī)掃描，避免同一區(qū)域的重復(fù)輻射，減少累積損傷。

使用保護(hù)層：在樣品表面涂覆薄層導(dǎo)電或非反應(yīng)性的材料，如金、碳膜等，可以作為屏障，減少電子束直接與樣品的相互作用。

環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM）：在較高壓力下工作，可以利用環(huán)境中的氣體分子中和電荷，減少表面充電，從而減輕損傷。

調(diào)節(jié)工作模式和參數(shù)：包括調(diào)整電子束的曝光時(shí)間、掃描速度等，以減少總輻射劑量。

利用特殊技術(shù)：如能量色散X射線光譜（EDS）和背散射電子衍射（EBSD）來(lái)輔助分析，這些技術(shù)不僅能提供信息，還能在一定程度上幫助識(shí)別和避免偽影，間接保護(hù)樣品。

通過(guò)綜合運(yùn)用上述方法，可以在保證成像質(zhì)量的同時(shí)，最大限度地減少電子束對(duì)樣品的潛在損傷。